(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202221622450.0 (22)申请日 2022.06.27 (73)专利权人 广东奥普特 科技股份有限公司 地址 523000 广东省东莞 市长安镇锦厦社 区河南工业区锦升路8号 (72)发明人 钟超　 (74)专利代理 机构 北京集佳知识产权代理有限 公司 11227 专利代理师 赵菲 (51)Int.Cl. F21S 8/00(2006.01) F21V 7/00(2006.01) G01N 21/88(2006.01) (54)实用新型名称 一种可调式同轴光源结构及检测系统 (57)摘要 本实用新型公开了一种可调式同轴光源结 构及检测系统， 可调式同轴光源 结构包括壳体单 元， 壳体单元内开设有容置腔体； 容置腔体内安 装有发光组件和多个分光镜单元， 多个 分光镜单 元设置于发光组件的一侧且间隔分布； 容置腔体 对应分光镜单元能反射的一侧开设有工件出光 孔， 对应分光镜单元的另一侧开设有相机出光 孔； 壳体单元外还滑动连接有挡光板， 挡光板设 置于工件出光孔的一侧。 其在壳体单元有限的空 间内， 仅使用了一发光组件便满足了多工件的检 测需求， 空间利用率高， 且光线利用率高； 同时挡 光板可以避免发生漏光现象， 进一步提高了光线 利用率。 因此， 本实用新型的可调 式同轴光源结 构及检测系统具有空间利用率高和光线利用率 高的优点。 权利要求书1页 说明书5页 附图6页 CN 217540526 U 2022.10.04 CN 217540526 U 1.一种可调式同轴光源结构， 其特征在于， 包括壳体单元(10)， 所述壳体单元(10)内开 设有容置腔体(1 1)； 所述容置腔体(11)内安装有发光组件(20)和多个分光镜单元(30)， 多个所述分光镜单 元(30)设置于所述 发光组件(20)的一侧且间隔分布； 所述容置腔 体(11)对应所述分光镜单 元(30)能反射的一侧开设有工件出光孔(111)， 对应所述分光镜单元(30)的另一侧开设有 相机出光 孔(112)； 所述壳体单元(10)外还滑动连接有挡光板(60)， 所述挡光板(60)设置于所述工件出光 孔(111)的一侧， 所述挡光板(60)能滑动至所述工件 出光孔(111)处以封堵所述工件 出光孔 (111)。 2.根据权利要求1所述的可调式同轴光源结构， 其特征在于， 所述分光镜单元(30)的数 量为两个， 分别为第一分光单元(31)与第二分光单元(32)； 所述第一分光单元(31)与所述 第二分光单元(32)沿远离所述发光组件(20)的方向依次设置， 且 所述第一分光单元(31)与 所述第二分光单 元(32)的倾 斜方向相同。 3.根据权利要求1所述的可调式同轴光源结构， 其特征在于， 所述分光镜单元(30)的数 量为两个， 分别为第一分光单元(31)与第二分光单元(32)； 所述第一分光单元(31)与所述 第二分光单元(32)沿远离所述发光组件(20)的方向依次设置， 且 所述第一分光单元(31)与 所述第二分光单 元(32)的倾 斜方向相反。 4.根据权利要求1所述的可调式同轴光源结构， 其特征在于， 所述容置腔体(11)内还设 置有吸光单元(40)， 所述吸光单元(40)设置于所述分光镜单元(30)远离所述发光组件(20) 的一侧。 5.根据权利要求1所述的可调式同轴光源结构， 其特征在于， 所述容置腔体(11)内还安 装有平行光路组件(50)， 所述平行光路组件(50)设置于所述 发光组件(20)与所述分光镜单 元(30)之间。 6.根据权利要求1所述的可调式同轴光源结构， 其特征在于， 所述壳体单元(10)外凸设 有凸台(12)， 所述凸台(12)开设有滑槽(13)， 所述挡光板(6 0)与所述滑槽(13)滑动连接； 其中， 所述滑槽(13)内固定连接有定轴件(141)， 所述定轴件(141)设置于所述工件出 光孔(111)的一侧； 所述定轴件(141)转动 连接有弹性挡 板(142)， 且所述定轴件(141)与所 述弹性挡板(142)之间设置有 扭簧单元， 所述扭簧单元的一端与所述定轴件(14 1)的一端连 接， 另一端与所述弹性挡板(142)连接 。 7.根据权利要求1所述的可调式同轴光源结构， 其特征在于， 所述容置腔体(11)的腔壁 开设有调节槽(15)， 所述发光组件(20)与所述调节槽(15)滑动连接； 所述调节槽(15)的槽 底开设有多个调节孔(16)， 其中一个所述调节孔(16)穿设有定位螺丝， 所述定位螺丝用于 锁紧所述发光组件(20)。 8.一种检测系统， 其特征在于， 包括相机单元(04)和如权利 要求1‑7中任一项所述的可 调式同轴光源结构， 所述相机单 元(04)设置 于所述相机出光 孔(112)的一侧。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 217540526 U 2一种可调式同轴光源结构及检测系统 技术领域 [0001]本实用新型 涉及光源技 术领域， 尤其涉及一种可调式同轴光源结构及检测系统。 背景技术 [0002]在机器视觉检测的场景中， 光源能够将工件上的缺陷特征信息与背景特征信息分 离， 以便于视觉检测装置获取缺陷特征信息； 根据不同的工件、 根据不同类型的缺陷特征检 测需求， 光源衍 生出同轴光源、 线性 光源、 环形光源等多种类型。 [0003]如图1所示， 传统的同轴光源包括同轴光源壳体0 1， 同轴光源壳体0 1内设置有灯珠 02和分光片05， 灯珠02发出的光照射于分光片05上， 通过分光片05的反射作用， 穿过同轴光 源壳体01的通光孔011， 光最终照亮目标工件03； 而同轴光源壳体01外的相机单元04可以通 过同轴光源壳体01的观察 孔012， 获取从目标工件0 3反射并穿过的分光片0 5的图像信息 。 [0004]上述同轴光源存在以下缺陷： 其不具备对多个工件检测的能力， 如果产线中需要 一次检测多个工件， 则需要设置多组同轴光源及对应的相机单元04， 空间利用率低； 同时， 每一个工件均对应一个光源， 通常远超工件的最低亮度检测需求， 即光利用效率较低。 [0005]综上所述， 现有的同轴光源在面临多个工件同时检测的需求时， 存在空间利用率 低且光线利用率低的缺 点。 实用新型内容 [0006]本实用新型的目的在于提供一种可调式同轴光源结构及检测系统， 来解决目前的 同轴光源在面临多个工件同时检测的需求时空间利用率低且光利用率低的问题。 [0007]为达此目的， 本实用新型采用以下技 术方案： [0008]一种可调式同轴光源结构， 包括壳体单 元， 所述壳体单 元内开设有容置腔体； [0009]所述容置腔体内安装有发光组件和多个分光镜单元， 多个所述分光镜单元设置于 所述发光组件的一侧且间隔分布； 所述容置腔体对应所述分光镜单元能反射的一侧开设有 工件出光 孔， 对应所述分光镜单 元的另一侧开设有相机出光 孔； [0010]所述壳体单元外还滑动连接有挡光板， 所述挡光板设置于所述工件出光孔的一 侧， 所述挡光板能滑动至所述工件出光 孔处以封堵所述工件出光 孔。 [0011]可选地， 所述分光镜单元的数量为两个， 分别为第一分光单元与第二分光单元； 所 述第一分光单元与所述第二分光单元沿远离所述 发光组件的方向依次设置， 且所述第一分 光单元与所述第二分光单 元的倾斜方向相同。 [0012]可选地， 所述分光镜单元的数量为两个， 分别为第一分光单元与第二分光单元； 所 述第一分光单元与所述第二分光单元沿远离所述 发光组件的方向依次设置， 且所述第一分 光单元与所述第二分光单 元的倾斜方向相反。 [0013]可选地， 所述容置腔体内还设置有吸光单元， 所述吸光单元设置于所述分光镜单 元远离所述发光组件的一侧。 [0014]可选地， 所述容置腔体内还安装有平行光路组件， 所述平行光路组件设置于所述说　明　书 1/5 页 3 CN 217540526 U 3